RF电力系统

可靠,可重复且稳定的射频发生器和可提供广泛频率的阻抗匹配网络

我们的射频(RF)电力输送解决方案用于从半导体制造,感应和电介质加热到工业激光器,超声波焊接和表面改性的应用中。伟德国际手机版本网站我们广泛的RF电源或发电机,以及我们在阻抗匹配网络中的专业知识,用于最佳过程性能,为最终设备应用提供完整的RF解决方案。伟德国际手机版本网站

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我们的射频功率能力

我们的射频功率传输解决方案范围从50W到10kW,频率从20kHz到60MHz,根据我们广泛的标准现成发电机和阻抗匹配网络设计为终端设备或流程量身定制。

在具有复杂载荷的大量应用中经验丰富,从等离子体生成用于沉积或蚀伟德国际手机版本网站刻的半导体制造到医疗保健和工业应用中的范围过程中,我们的解决方案包括固定和频率敏捷发电机,脉冲模式操作发生器和自动调整,多- 特点和固定阻抗匹配网络。在XP伟德1946手机版 Power中,我们通过我们的专业应用和射频应用中的工程知识为导向支持您的系统开发需求。伟德国际手机版本网站

我们的产品组合包括50W至10kW的高频(6.78MHz至60MHz)发电机,200W至10kW的低频(20kHz至2MHz)发电机,每输出500W至1500W的双频(400kHz至60MHz)发电机和自动调谐发电机,多抽头可选择和固定阻抗匹配网络高达60MHz,覆盖系统和过程的广谱需求,包括脉冲模式和频率敏捷要求。

通信解决方案包括模拟接口、数字接口、DeviceNet和EtherCAT实现,以满足不同的系统需求和行业需求

我们能帮你什么吗?

如果您对RF产品有任何疑问,包括报价和RMA请求,请与我们取得联系 - 我们非常乐意提供帮助。

高频射频电源

我们的高频射频电源是专为满足射频驱动等离子体系统中半导体处理的性能需求而设计的。伟德国际手机版本网站应用包括蚀刻,ICP,射频溅射,PECVD和太阳能光伏应用。其他应用包括工业系统中伟德国际手机版本网站的感应和介质加热过程。

CB系列

CB系列是45年射频等离子体和加热经验的顶峰。我们采用了经过验证的CX系列功率放大器部分的坚固设计,并将其与直流电源和诊断方面的所有创新相结合,从而在不影响尺寸可靠性的情况下,制造出一种紧凑、稳定的射频电源。这些单频RF电源在HF/VHF频段(13.56MHz至60MHz)运行,仍然受益于XP power的“S”技术。伟德1946手机版

性能

CB产品系列的射频发生器的功率范围为50至5000瓦,标准固定频率为13.56 MHz至60 MHz。固态设计提供了精确和可重复的功率控制,超稳定的输出和低拥有成本。CB系列的设计基于XP Power的射频放大技术。伟德1946手机版

特性
  • 体积小,重量轻,包装
  • 标准固定频率:13.56 MHz至60 MHz
  • 专利s技术提供超稳定的输出。这种稳定技术优化了放大器的性能,减少了等离子体阻抗波动引起的功率增益变化。
  • 满足CE, EN61010, SEMI F47, EN55011, EN61326, EN61000, FCC part 18
  • 前进或提供电力模式调节
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CB系列产品是为满足射频驱动等离子体半导体加工系统的性能要求而设计的。伟德国际手机版本网站应用包括蚀刻,ICP,射频溅射和PECVD,以及工业系统中的感应和介质加热过程,以及太阳能光伏应用。

了解频率敏捷调谐的高性能射频等离子体系统

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了解XP Power的S伟德1946手机版专利技术

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低频RF电源

我们的低频射频电源是专为满足射频驱动等离子体系统中半导体处理的性能需求而设计的。伟德国际手机版本网站应用包括蚀刻,ICP,射频溅射,PECVD和太阳能光伏应用。其他应用包括工业系统中伟德国际手机版本网站的感应和介质加热过程。

CLB系列

CLB系列集成了之前CLF系列的所有功能和创新,并具有重量更轻和体积更小的优势。

性能

来自CLB产品系列的RF发电机可在20 kHz至2 MHz频段的单个频率下功耗为200至10,000瓦的功率范围。该装置内的Turbotune技术允许通过在其标称频率周围自动改变其输出频率+/- 10%来频率调整。固态设计提供了精确和可重复的功率控制,超稳定的输出和低拥有成本。CLB系列的设计基于XP Power的RF放大器技术。伟德1946手机版

特性
  • 体积小,重量轻,包装
  • 标准功率范围:600瓦、1250瓦、3000瓦
  • 从20khz到2mhz的任何单一频率,±10%
  • 锁相调谐或软件算法
  • 满足CE, EN61010, SEMI F47, EN55011, EN61326, EN61000, FCC part 18
  • 前进或提供电力模式调节
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CLB系列是为了满足射频驱动等离子体系统在半导体加工方面的性能要求而设计的。伟德国际手机版本网站应用包括蚀刻,RIE,平行板,ICP,射频溅射,CVD和PVD,以及工业系统中的感应和介质加热过程。

双频射频发生器和电源

CDX系列

  • 简化操作,在不牺牲性能的前提下降低成本
  • 紧凑的包装减少了空间、服务(电气和管道)和备用库存需求。
性能

CDX双频射频发生器提供了高达3000瓦的设计。两个独立的射频输出(每个最多1500W)可以选择400kHz、2MHz、13.56MHz、27.12MHz、40.68MHz或60MHz的任意组合。输出可以配置脉冲(脉冲同步)、频率调谐或CEX。

特性
  • 设计满足:CE,EN61010,SEMI F47,EN55011,EN61326,EN61000,FCC部分18
  • 保护电路保护放大器不受过压,过流和过功率工作条件的影响
  • 增益控制电路稳定输出功率抵抗线路和负载变化,并在高VSWR条件期间限制功率
  • 独特的电力监测在低频部分的措施,将电力输送到任何阻抗负载
  • 可选的快速频率调谐在许多应用程序中消除了对自动匹配网络的需要伟德国际手机版本网站
伟德国际手机版本网站

伟德国际手机版本网站应用包括蚀刻,ICP,射频溅射,PECVD和太阳能光伏应用。附加应用包括工业系统中伟德国际手机版本网站的感应和介电加热过程

阻抗匹配网络

匹配专业匹配网络

  • 快速调谐和微调分辨率提供可重复的过程结果
  • 定制设计以适应您的特定应用程序
性能

所有匹配Pro阻抗匹配网络都设计有XP电源唯一的Protrak,这是一种高速调谐算法,它在接近调谐点时逐渐减慢系统,即使在高伟德1946手机版“Q”负载中也允许精确匹配。该比例控制电路示出了XP电力匹配Pro和其他匹配网络之间的临界差异。伟德1946手机版匹配Pro快速,准确,可靠地将输入阻抗调整为50欧姆,响应您过程中负载特性的变化。匹配Pro以50至50,000瓦的功率范围内运行。

特性
  • 自动和手动模式,本地和远程手动控制调谐电容器
  • 能够预先定位电容器的最佳等离子点火点之前打开,导致快速和可靠的调谐
  • 电容器定位输出,以显示在哪个过程中发生匹配
  • 高功率H桥,MOSFET电机驱动电路保守额定改善可靠性
  • 可选的BLDC电机和驱动器,用于改善电机生命周期
  • 可选的DC偏置和RF VP-P检测器电路可用

行业

半导体

我们的射频电源解决方案的全面组合,通过提供当今精密工艺所需的更高功率和频率,在各种制造应用中充当关键组件。伟德国际手机版本网站

  • 精确的射频控制,监控任何可测量的过程变量,包括:输出功率,直流偏置电压,射频电流等。
  • 对电力需求波动的瞬时响应
  • 快速脉冲和频率调谐
  • 高品质,稳定的证明力量
  • 蚀刻
  • 沉积
  • LED处理
  • 硅炼油
  • 太阳能薄膜
  • 20KHz至60MHz固态可达10KW
  • 适应尖端制造实践的灵活性
  • 能够改造成旧的生产方法
感应加热

我们的射频电源解决方案的全面组合可作为各种制造应用的关键组件,提供:伟德国际手机版本网站

  • 精确的射频控制调节任何可测量的过程变量,包括:温度,频率,电压,电流等。
  • 快速响应波动的电力需求
  • 适应尖端制造实践的灵活性
  • 能够改造成旧的生产方法
  • 质量高,功率稳定,可重复使用
  • 频率调谐可用来快速调整变化的负载。

金属淬火和回火

感应硬化和回火过程降低了成本,增加了生产,提高了质量控制并改善了工作场所的环境。由于在部件内产生热量,因此热量限制在所选区域内,并允许控制加热深度,时间,功率和温度。该过程是节能,可重复的,易于适合现有的产品线。

伟德1946手机版XP Power提供广泛的电源供应范围从20KHz到60MHz,和200W到10KW。

先进材料

伟德1946手机版XP Power为等离子炬和等离子放电提供了200W至80KW的射频电源,用于生产纳米颗粒、陶瓷沉积和原子层沉积(ALD)。

我们的射频电源解决方案的全面组合可作为各种制造应用的关键组件,提供:伟德国际手机版本网站

  • 精确的射频控制调节任何可测量的过程变量,包括:温度,频率,电压,电流等。
  • 快速响应波动的电力需求
  • 适应尖端制造实践的灵活性
  • 能够改造成旧的生产方法
  • 质量高,功率稳定,可重复使用
激光

我们的射频电源解决方案的全面组合可作为各种制造应用的关键组件,提供:伟德国际手机版本网站

  • 精确的射频控制调节任何可测量的过程变量,包括:温度,频率,电压,电流等。
  • 快速响应波动的电力需求
  • 适应尖端制造实践的灵活性
  • 能够改造成旧的生产方法
  • 质量高,功率稳定,可重复使用
介电加热

介质加热过程的负载需要优化的射频功率水平,按需频率和精确的功率控制,以改进过程控制。

我们的射频电源解决方案的全面组合可作为各种制造应用的关键组件,提供:伟德国际手机版本网站

  • 精确的射频控制调节任何可测量的过程变量,包括:温度,频率,电压,电流等。
  • 快速响应波动的电力需求
  • 适应尖端制造实践的灵活性
  • 能够改造成旧的生产方法
  • 质量高,功率稳定,可重复使用
  • 频率调谐可用来快速调整变化的负载
  • 电弧关闭以防止工具和产品损坏

烘烤

射频加热用于常规烘焙炉,以去除部分干燥烘焙产品(如早餐麦片、饼干、饼干和海绵蛋糕)的最终水分,并提高现有烘焙炉的生产能力。面包师使用RF更好地控制产品的最终水分含量,减少检查问题,提高生产力和提高产品质量。

烹饪

射频烹饪(RF)是一种介质加热的形式,通过将产品置于两个平行电极之间的交替电磁场中进行加热。虽然在某些方面与微波加热相似,但射频技术被认为更适合于肉类的工业加热,因为它具有更大的加热均匀性、更大的穿透深度和更少的屏蔽需求。

干燥

高频干燥是一种有效的去除纺织品,木材和胶合板的水分的过程。它也用于木材工业的压花,成型或复合到纤维板的OSB和切屑板固化和固化胶水加速干燥时间。

玻璃层压

射频介质加热直接加热聚合物夹层,这些夹层用于汽车挡风玻璃、飓风玻璃、安全玻璃、太阳能电池板和透明装甲的夹层。直接加热几乎消除了提供了比其他方法节省90%的能源。

木层压

伟德1946手机版XP电源提供精确的功率控制在广泛的频率范围。

塑料焊接

RF功率广泛用于医疗保健,汽车,服装和运动器材的塑料材料的焊接和成型。